マスクアライナを用いたフォトリソグラフィ、電子線描画装置を用いたナノスケールリソグラフィ、反応性イオンエッチング装置を用いたドライエッチング、イオン注入装置を用いた不純物導入プロセスを提供する。名古屋大学先端技術共同研究センターの機器を提供する。マスクアライナ、電子線描画装置、CAD、反応性イオンエッチング装置、イオン注入装置。
MEMSのナノデバイス構造を実現するため、フォトリソグラフィをベースにした高度なマイクロマシニング技術を提供する。結晶異方性エッチングデータベースとプロセスシミュレーション，Deep RIE装置による高アスペクト比加工，機械的除去加工などを総合して３次元ナノ構造製作を支援する。フォトリソグラフィ設備一式、ドライプロセス装置一式、ウェットプロセス装置一式、薄膜形成装置一式。
磁性人工格子など磁性薄膜材料の開発，電子ビーム露光，フォトリソグラフィによるナノデバイスの作製，磁気力顕微鏡，トルク磁力計などによる材料やデバイスの評価に関してこれまでに蓄積した技術を生かし，さまざまなスピントンネルデバイス，マイクロ磁気センサー，ナノバイオデバイスなどの開発を支援する。 分子線エピタキシー装置（4元電子ビーム蒸着，蒸着速度制御機構，磁性人工格子の成膜）、分子線エピタキシー装置（8元電子ビーム蒸着）、8元スパッタリング装置、3元スパッタリング装置、微細パターン描画、ECRエッチング装置、走査型原子間力顕微鏡（磁気力観察機能）、薄膜X線回折装置。
財満鎭明教授
zaima＠alice.xtal.nagoya-u.ac.jp
052-789-2762
半導体プロセスを駆使したナノ構造形成
MEMSのマイクロ・ナノ構造製作支援
佐藤一雄教授
sato＠mech.nagoya-u.ac.jp
052-789-5223
ナノマグネティック・デバイス作製支援
岩田聡教授
iwata＠nuee.nagoya-u.ac.jp
052-789-3303
