当研究室では、光応答性や液晶性を持つ高分子、高分子ゲルなどのソフトマテリアル材料を分子設計ならびに合成し、配向・配列などの組織制御から、構造および物性評価まで、材料研究に必要なプロセスを一貫して行っています。原子移動ラジカル重合や解環メタセシス重合を用いたブロックコポリマー合成や高分子グラフト膜の調製、ゾルゲル法によるナノ多孔膜の配向、X線散乱による薄膜構造解析にも力を入れております。これら材料の分子配向操作は、機械的な配向の他、配向膜による界面配向制御や偏光照射による液晶の光配向など様々な手法を検討しています。
　下記に挙げる装置の他、グローブボックスや有機合成装置なども所有し、ソフトマテリアル研究の実験環境が充実しております。

当研究室は、「ナノテクノロジー・プラットフォーム」物質・材料合成支援に参画しております。

「高分子ナノ薄膜形成による組織化されたソフトマテリアル、光の精密利用材料や次世代エネルギー再生・備蓄を目指した分子物質合成支援」に関して、下記の様々な装置郡を用い、大学・企業の方々の材料開発に技術支援を行います。是非、ご利用下さい。まずは、ご相談から。

1. ナノ構造体および高分子薄膜材料の合成支援（液晶性高分子、ブロックコポリマー、高分子グラフトフィルム、メソポーラスシリカ・チタニア等）
2. 高分子ナノ薄膜表面構造解析システム：ナノ薄膜の膜厚測定、表面形状測定
3. 高分子ナノ薄膜内部構造評価：小角および広角斜入射X線散乱測定、偏光吸収スペクトル測定（UV-vis, IR）、電子顕微鏡等による断面観察（断面作製も含む）
4. 高分子ナノ薄膜作製技術支援：高分子単分子膜、高分子超薄膜、液晶性高分子、メソポーラス膜の配列・配向および光配向技術支援

技術資料：
1. 小角斜入射X線散乱測定GI-SAXS
2. 広角斜入射X線散乱測定GI-WAXS

連絡先： mhara [at] chembio.nagoya-u.ac.jp